國立台灣美術館｜第二十二屆國際版畫雙年展｜展覽視覺延伸與空間設計
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從複數的印痕出發，在空間中展開當代版畫的多元對話。
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 作為全球歷史最悠久的國際版畫雙年展之一，「中華民國國際版畫雙年展」已邁入第四十餘年的歷程。本屆展覽中，我們承接了展覽空間規劃與主視覺的延伸設計。面對匯集來自 81 個國家、超過千件作品的國際盛會，我們以既有的主視覺為核心，透過空間的調度與重構，將版畫藝術「複數性、版面轉化與跨媒材實驗」的精神，具象化為觀者可親自體驗的立體場域。

▚ 視覺延伸與空間的交會
本屆展覽集結了 36 個國家的 183 件精彩作品，從傳統技法的深耕到結合複合媒材、空間裝置與數位技術的當代探索，展現出極其豐富的國際面貌。在空間設計上，我們並非單純進行平面式的作品陳列，而是呼應主視覺的當代感與國際視野：

01 / 動線與國界交織的節奏
我們透過展牆的錯落與空間軸線的安排，在展間梳理出流暢的觀展動線。讓觀者在穿梭於個體記憶、自然環境、社會處境等多元議題作品的同時，能感受到空間隨著版畫媒介的邊界拓展而起伏的節奏。

02 / 媒材實驗的空間對應
針對本屆許多突破平面框架的立體裝置與跨領域表現，我們在空間結構與照明配置上進行了精細調控，讓傳統版印痕跡與當代數位語彙在同一處場域中各自發揮張力，突顯版畫作為反思社會與文化媒介的當代意義。

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本屆集結了臺灣、美國、日本及比利時等地的國際評審團，呈顯出多元文化背景交會的景觀。我們以設計者的角色，將這份跨文化對話的精神植入空間之中，並透過作品與留白比例的拿捏，為來自世界各地的作品打造一座舒適、沈靜且充滿張力的展示場域。
我們期待透過空間與視覺的整體延伸，讓觀眾在造訪這座歷史悠久的國際版畫殿堂時，不只能夠細細品味每張版印背後的勞動與思索，更能在一面面交錯的展牆間，感受當代版畫藝術無遠弗屆的創作能量。